【新增设备】摩方精密nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机正式运行
摩方精密nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机正式运行
魔方精密BMF nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机已于近日完成安装工作。nanoArch系列打印机是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
nanoArch S130 系统简介：
光学精度：2μm；
打印幅面：50×50mm；
极限微尺度增材制造设备。
系统性能参数：
光源 | UV-LED(405nm) |
打印材料 | 光敏树脂 |
光学精度 | 2μm |
打印层厚 | 5~20μm |
打印样品尺寸 | 模式1：单投影模式：3.84(L)×2.16mm(W)×10mm(H) |
打印文件格式 | STL |
系统外形尺寸 | 1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H) |
重量 | 550kg |
电气要求 | 220~240V AC,50/60HZ,2KW |
设备特点优势：
超高精度（XY打印精度高达2μm）
低层厚（5μm~20μm的打印层厚效果对比）
微尺度打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置气浮平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配套功能强大的打印软件、切片软件
应用案例：
