【新增设备】摩方精密nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机正式运行

【新增设备】摩方精密nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机正式运行

摩方精密nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机正式运行


魔方精密BMF nanoArch S130超高精度微尺度3D打印机已于近日完成安装工作。nanoArch系列打印机是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。


nanoArch S130 系统简介:

光学精度:2μm;
打印幅面:50×50mm;
极限微尺度增材制造设备。


系统性能参数:


光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

2μm

打印层厚

5~20μm

打印样品尺寸

模式1:单投影模式:3.84(L)×2.16mm(W)×10mm(H)
   
模式2:拼接模式:38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)
   
模式3:重复阵列模式:50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)

打印文件格式

STL

系统外形尺寸

1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量

550kg

电气要求

220~240V AC,50/60HZ,2KW



设备特点优势:

超高精度(XY打印精度高达2μm)

低层厚(5μm~20μm的打印层厚效果对比)

微尺度打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配套功能强大的打印软件、切片软件


应用案例:

1679281138710716.png